第1364章 膜厚控制（2/2）

思路很简单：设备硬体做不到零点零二纳米的精度，就在每一层镀膜的过程中用传感器实时採集数据，反馈到算法里，算法即时修正下一步的沉积参数。

等於让一个手抖的人，靠一套自动修正系统，画出一条直线。

八月九號，凌晨两点，补偿参数跑出来了。

小周把参数灌进设备控制系统，重启。

溅射设备嗡嗡响了起来。

钱院士站在无尘室的观察窗外，看著里面。

第一层鉬膜，沉积开始。

传感器採集，数据回传，算法修正。第二层硅膜，沉积，採集，修正。

一层鉬，一层硅，交替沉积。

euv反射镜面需要四十对鉬硅多层膜——八十层，每层厚度不到七纳米。

八月十號，下午三点，八十层镀完。

小周从无尘室里出来，手里端著一块圆形基片，直径十五厘米，表面泛著金属光泽。

钱院士接过来，放在检测台上。

椭偏仪启动，雷射打在镜面上，反射，探测器接收。

数据出来了。

小周看著屏幕，念数：“单层膜厚度误差，零点零三五纳米。”

钱院士没说话。

手册要求零点零二，他们做到了零点零三五。没达標，但比原来的零点零八好了一倍多。

“反射率呢？”

小周切换到下一组数据：“十三点五纳米波长，反射率百分之六十二点三。”

钱院士看著这个数字。

手册上蔡司的指標是百分之六十七，差了不到五个点。

但是，euv光刻机的最低工作门槛是百分之六十。

他们过线了。

钱院士走到角落，拿起电话。

“红旗，光打通了。”

张红旗在煤市街的院子里，正看著陈默送来的一份报告。

“什么意思？”

钱院士声音平稳：“极紫外光源，十三点五纳米，穿过反射镜面，形成了稳定光束。参数达到了euv光刻的最低发光標准。”

张红旗把手里的报告放下。

“钱老，您確认？”

“仪器记录的，白纸黑字。反射率百分之六十二点三，过了百分之六十的门槛。”

张红旗站了起来，走到院子里。槐树叶子在夜风里晃。

“这是第一步。”

钱院士说：“是第一步。后面还有光源系统、物镜组、工件台、掩模版，每一项都是硬骨头。但镜面这关，算是过了。”

张红旗说：“钱老，辛苦了。数据锁好，不要外传。”

“放心。”

掛了电话。

张红旗回到书房。桌上摊著麦佳佳从洛杉磯发来的一份行业报告。

他坐下来，翻到第十四页。

全球宽带网络用户增长曲线。

二零零一年底，全球宽带用户五千万；二零零二年中，八千万；预计年底突破一点二亿。

增长率，年化百分之一百四十。

张红旗盯著这条曲线。

他翻到下一页。中国市场，宽带用户从年初的三百万半年涨到六百万，网吧数量突破十万家。

他合上报告，拿起笔，在笔记本上写了一行字。

“宽带，內容，平台。”

他划掉了“平台”两个字，又写上。

“先做內容。”