第1357章 准备好了？（1/2）

五月八號。

荷兰，费尔德霍芬。

asml总部。

一栋灰色的方形建筑，门口竖了两块巨幅gg牌，蓝底白字。

“euv：the future of semiconductor manufacturing”

发布会定在上午十点。九点半人就到齐了。

三百多人，坐满了报告厅。

路透、彭博、金融时报、华尔街日报、日经新闻、法兰克福匯报——全球科技口的记者来了一半。

摄像机架了两排，闪光灯试了又试。

范德贝尔穿了件深蓝西装，白衬衫，没打领带。

他站在后台，助手递过来一杯水，他喝了一口，放下。

“准备好了？”

助手点头。

十点整，灯暗了。

范德贝尔走上台。

身后是一块十二米宽的led屏，屏上一行字。

“euv alpha demo unit — first light”

掌声。

范德贝尔没废话。

“今天，我给各位看一样东西。”

屏幕切换，实时画面——隔壁的洁净室。

一台机器占了半间屋子，银白色外壳，管线密密麻麻。

范德贝尔拿起遥控器，按了一下。

洁净室里，工程师启动程序。

嗡的一声。

机器亮了。

屏幕上跳出一组数字。

光源功率：62瓦。

波长：13.5纳米。

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曝光均匀性：99.2%。

报告厅安静了三秒。

然后掌声炸了。

范德贝尔站在台上，等掌声停了。

“62瓦。各位，我们原定的目標是50瓦，今天的实测数据超出了百分之二十四。”

台下记者开始举手。

范德贝尔摆了摆手。

“问题等会儿再说，先看完。”

屏幕上切出第二组数据。

解析度测试：45纳米线宽，清晰，没有畸变。

第三组，套刻精度：3.2纳米。

范德贝尔指著屏幕。

“这意味著，euv光刻技术从实验室走向了工程验证阶段。我们距离量產只差最后一步。”

掌声又起来了。

发布会结束，记者围上去。

范德贝尔回答了十二个问题。最后一个，金融时报的记者问。

“首批量產设备的客户名单，能透露吗？”

范德贝尔笑了一下。

“首批设备將优先供应我们的长期合作伙伴——台积电，三星，英特尔。至於亚洲其他地区的客户，目前没有计划。”

这句话当天晚上就上了所有科技媒体的头条。

彭博的標题。

“asml宣布euv光刻机突破关键里程碑：亚洲客户被排除在首批名单外”

京城，后海。

下午三点。

张红旗坐在地下室。

面前一台电脑，屏幕上放的是asml发布会的网络直播回放。

他从头看到尾，看了两遍。

第一遍看范德贝尔说了什么。

第二遍看屏幕上那些数字。

62瓦，13.5纳米，99.2%，45纳米，3.2纳米。

他把这些数字一个一个抄在纸上。

陈默站在旁边，没说话。

张红旗把纸折好，装进信封。

“发鹏城，钱老亲启。今天就寄，用最快的。”

陈默接过去，走了。

五月十號。

鹏城，地下室。

钱院士把asml发布会的参数输进了模擬集群。

十台伺服器跑了六个小时。

结果出来了。

钱院士把两张曲线图叠在一起。