第725章 忙碌的测试大神，车诗诗（2/2）

“研发3部程序言那边也设计出几款新的晶片需要生產，还有研发2部需要的电击晶片、雷达晶片，六菱汽车的车载晶片……”

刘一首一一列举，需要晶片的部门不下十个。

“咱们的初心，可太迫切了！”刘一首感慨道，“紫晶工厂那边的意思是，最迟两个月，就对第一台13nm光刻机进行整体试验。”

“因此，在这两个月內，我们的配套软体，必须得跟上。”刘一首压力山大的说道。

车诗诗十分吃惊，没想到进度竟然这么快。

刘一首简单的安排了一下后，便去其他的地方跟进项目的情况。

而车诗诗，也向测试部门安排在这边的测试总监梁月询问了具体的情况。

“梁月，现在这边的测试情况是怎样？”车诗诗找了个办公室，向梁月询问道。

梁月是个三十五岁的测试工程师，以前是搞嵌入式开发的，后来发现测试比开发要轻鬆，便开始转型。

来到初苗集团后，也是从底层测试员做起，一直到现在火箭似的两年时间成为部门测试总监级別的管理层。

面对部门老大的询问，梁月立即说道：“车总，目前由咱们研发1部同事自主研发的opc、smo、ilt。都已经有了初版实现。”

“最近我主要先做opc的测试……”梁月详细的介绍自己当前的测试进度。

“等等，你先说一下这opc，”车诗诗打断说道，“最近我一直都在跟机械设备打交道，软体这部分，已经从脑子里挤出来了都。”

“好的，车总。”梁月一笑，立即仔细的介绍了一遍各种技术的的情况。

“opc，就是光学邻近效应修正。其作用是在设计图形中加入精確计算的补偿，抵消光线衍射带来的失真。”梁月说道。

“在追求极致精度的同时，必须在计算复杂度、物理精確度和海量数据之间找到脆弱的平衡点。隨著晶片製程不断逼近物理极限，这些挑战也愈发严峻。”

“嗯，我先从物理层面说吧。”梁月想起遇到的难题，说道：“opc依赖物理模型，其精度直接决定了修正效果的上限。因此，在我们测试的时候，还需要结合紫晶工厂那边的实际物理模型进行测试。”

车诗诗一边听，一边做著简短的记录，“好，你继续说。”

“物理模型方面的难点有三大方面，这也是我们测试的时候容易达不到测试要求的標准情况，影响测试的物理模型三大难点分別为：从標量到矢量的难点，三维掩模效应和光刻胶。”

“隨著光刻图形尺寸远小於光源波长，传统的標量衍射模型已不再准確，必须採用更复杂的矢量电磁场模型来精確描述光与掩模上微小结构的相互作用。这就是从標量到矢量的难点。”

梁月见到车诗诗皱著眉记录著，便稍作停顿。然后继续说道，“掩模本身是一个三维结构（如复杂的吸收层），光通过时会引发复杂的偏振、散射效应，这被称为“厚掩模效应”。对其进行高精度建模是当前的一大挑战。”

“而我们需要对其模型进行测试，验证其是否可用。这直接就影响到后续opc的测试。”

车诗诗的眉头越皱越紧，“怎么感觉测试內容比精工那边多得多。”